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貴金屬鍍膜涂層用磁控濺射儀MSP-1S的核心優(yōu)勢

時間:2025/2/18閱讀:266
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貴金屬鍍膜涂層用磁控濺射儀MSP-1S的核心優(yōu)勢


該設(shè)備是一種用于涂層珍貴金屬薄膜的設(shè)備,用于SEM觀察。這是一種使用貴金屬涂層來防止SEM樣品充電并提高產(chǎn)生二級電子的效率的設(shè)備。

除了使用磁鐵靶電極使用低壓放電外,樣品階段還用于使用浮動方法來減少由電子束流入引起的樣品損傷。它易于操作,只需按一個按鈕,任何人都可以輕松操作它。因為它具有內(nèi)置的泵,所以它很小且不會占用太多空間。它在桌子的一個角落很好。

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貴金屬磁控濺射儀 MSP-1S 核心優(yōu)勢

1. 專為貴金屬鍍膜設(shè)計

  • 支持金(Au)、銀(Ag)、鉑(Pt)、鈀(Pd)等貴金屬靶材,膜層純度高(≥99.99%),滿足應(yīng)用需求。

  • 優(yōu)化的濺射工藝,確保貴金屬膜層均勻性(±3%以內(nèi)),減少材料浪費,降低使用成本。

2. 高精度控制

  • 配備高穩(wěn)定性直流/射頻電源,功率調(diào)節(jié)精度達(dá)0.1W,實現(xiàn)超薄膜層(納米級)的精準(zhǔn)控制。

  • 智能真空系統(tǒng),極限真空度≤5×10?? Pa,確保鍍膜環(huán)境潔凈,避免雜質(zhì)污染。

  • 基片溫度可控范圍廣(室溫~500℃),適應(yīng)不同貴金屬成膜需求。

3. 高效節(jié)能,經(jīng)濟(jì)實用

  • 靶材利用率高達(dá)80%以上,顯著降低貴金屬材料損耗。

  • 低功耗設(shè)計(<3kW),運行成本僅為傳統(tǒng)設(shè)備的60%,適合長期使用。

  • 模塊化結(jié)構(gòu),維護(hù)便捷,關(guān)鍵部件可快速更換,減少停機(jī)時間。

4. 多功能應(yīng)用,靈活適配

  • 支持單層或多層復(fù)合鍍膜,滿足復(fù)雜工藝需求。

  • 兼容多種基片(硅片、玻璃、陶瓷、聚合物等),適用于半導(dǎo)體、光學(xué)、生物傳感器等領(lǐng)域。

  • 可選配離子清洗功能,提升膜層附著力,優(yōu)化鍍膜質(zhì)量。

5. 安全可靠,操作簡便

  • 全封閉式濺射腔體,配備多重安全保護(hù)(過流、過壓、真空異常報警),確保操作安全。

  • 觸控屏界面,參數(shù)設(shè)置直觀,支持工藝配方存儲與調(diào)用,降低操作難度。

  • 自動化運行,減少人為干預(yù),提高實驗重復(fù)性。

6. 科研與生產(chǎn)雙重價值

  • 為高校、科研院所提供貴金屬薄膜研究平臺,助力新材料開發(fā)與性能優(yōu)化。

  • 支持小批量試生產(chǎn),幫助企業(yè)快速驗證工藝,縮短產(chǎn)品上市周期。


應(yīng)用場景示例

? 半導(dǎo)體行業(yè):電極鍍金、引線鍵合層制備
? 光學(xué)領(lǐng)域:高反射鏡、紅外窗口鍍膜
? 生物醫(yī)療:生物傳感器、微電極陣列制造
? 新能源:燃料電池催化劑涂層、太陽能電池電極


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