產(chǎn)品簡介:
EVG 101是一款適合于研發(fā)的單腔晶圓涂膠顯影設(shè)備,可用于噴膠、旋涂和顯影,可在三維結(jié)構(gòu)晶圓上完成光刻膠或聚合物的涂覆,并保持高均勻性。
主要特點(diǎn)及參數(shù):
·可適用于12寸(300mm)晶圓
·手動(dòng)裝片,自動(dòng)噴涂/旋涂,自動(dòng)清洗腔室內(nèi)殘膠
·適用光刻膠范圍廣泛,粘度可達(dá)52000cp
·基片轉(zhuǎn)速:10000r/min
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參 考 價(jià): | 面議 |
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更新時(shí)間:2024-04-27 07:12:34瀏覽次數(shù):143次
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EVG 101是一款適合于研發(fā)的單腔晶圓涂膠顯影設(shè)備,可用于噴膠、旋涂和顯影,可在三維結(jié)構(gòu)晶圓上完成光刻膠或聚合物的涂覆,并保持高均勻性。
主要特點(diǎn)及參數(shù):
·可適用于12寸(300mm)晶圓
·手動(dòng)裝片,自動(dòng)噴涂/旋涂,自動(dòng)清洗腔室內(nèi)殘膠
·適用光刻膠范圍廣泛,粘度可達(dá)52000cp
·基片轉(zhuǎn)速:10000r/min
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