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?JC系列磁控濺射鍍膜機(jī)

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更新時(shí)間：2024-06-01 22:25:25瀏覽次數(shù)：81次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

JC系列用途及特點(diǎn)UseandFeatures●磁控濺射鍍膜設(shè)備主要用于在基片上鍍制金屬、半導(dǎo)體、電介質(zhì)、多元素化合物或混和物

詳細(xì)介紹

JC系列磁控濺射鍍膜機(jī)
Series JC Magnetron Sputtering Coater

主要機(jī)型及參數(shù)
Main models and parameters

型號(hào) Model	應(yīng)用特點(diǎn) Application field	裝片工作臺(tái)特點(diǎn) Features of film loading bench	基片尺寸 Size of substrate	產(chǎn)量/每小時(shí) 1μ鋁層厚度 Output per hour 1μm aluminum coating thickness	厚度均勻性 thickness homogeneity	真空系統(tǒng) Vacuum system
JC400-1/D	適合科研、生產(chǎn)硅片及砷化鎵片 Scientific research,production of silicon film and gallium arsenide film	全自動(dòng)盒對(duì)盒送片，濺射源數(shù)量可按工藝調(diào)整，低塵粒 Full automatic box-to-box film advance;quantity of sputtering source to be adiusted as per the process;low in density of dust particles	4～6″	40	±5％	低溫泵加分子泵系統(tǒng) Cryogenic pump system added with molecular pump
JC500-1/D	適用于圓形片狀工件 Circular sheet work-piece	工件可進(jìn)行公轉(zhuǎn)，水平裝片 Revolution of work-piece available；horizontal film loading	4″	16	±8％	分子泵系統(tǒng) Turbomolecular pump system
JC500-5/D	適用于矩形片狀工件 Rectangular sheet work-piecevv	工件可進(jìn)行公轉(zhuǎn)，垂直裝片 Revolution of work-piece available；vertical film loading	150x150mm	10	±8％	分子泵系統(tǒng) Turbomolecular pump system
JC600-1/D	適用于矩形片狀工件 Rectangular sheet work-piecevv	工件架為十邊拄形，垂直裝片 work-piece holder in decagonal column shape；vertical film loading	280x100mm	20	±8％	擴(kuò)散泵系統(tǒng) Diffusion pump system
JC600-2/D	適合科研、生產(chǎn)砷化鎵基片線寬亞微米級(jí) Scientific research,production of gallium arsenide film with line width at submicron level	工件可進(jìn)行自傳、公轉(zhuǎn) 水平裝片 Rotation and revolution of work-piece available；horizontal film loading	3″	24	±5％	低溫泵系統(tǒng) Cryogenic pump system
JC650-1/D	適用于矩形或圓形片狀工件 Rectangular or circular sheet work-piece	工件可進(jìn)行公轉(zhuǎn)，水平裝片 revolution of work-piece available；horizontal film loading	Φ100mm	10	±5％	分子泵系統(tǒng) Turbomolecular pump system