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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

北京中科復華科技有限公司


紫外光刻機

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參  考  價:￥200 - ￥280 /件
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產(chǎn)品型號

    ABM/6/350/NUV/DCCD/SA

  • 品牌

    其他品牌

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)商

  • 所在地

    北京市

聯(lián)系方式：陳經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時間：2024-04-09 09:44:01瀏覽次數(shù)：263次

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經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：12條

所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：陳經(jīng)理 （銷售經(jīng)理）

產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地 進口    

截止到2008年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機，50多臺單獨曝光系統(tǒng)。客戶包括美國NSA和INTEL、哈佛大學、LG、菲利普、惠普、3M等，ABM在中國各地也擁有不同領域的客戶，包括眾多的工廠、大學和研究所等。

詳細介紹

主要配置：

6“，8"光源系統(tǒng)
可支持2“，3"，4“，6"，8“（圓/方片）及碎片光刻
手動系統(tǒng)，半自動系統(tǒng)
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長（可選項）
支持背后對準及MEMS工藝要求
CCD或顯微鏡對準系統(tǒng)


主要性能指標：
光強均勻性Beam Uniformity:：
--<±1% over 2" 區(qū)域
--<±2% over 4" 區(qū)域
   --<±3% over 6" 區(qū)域
接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um
接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
支持接近式曝光，特征尺寸CD：
--0.8um 硬接觸
--1um 20um 間距時
--2um 50um 間距時
正面對準精度 ± 0.5um
背面對準精度±1um--±2um（Depends on user）
支持正膠、負膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
支持LED優(yōu)異電流控制技術PSS工藝光刻
支持真空、接近式、接觸式曝光
支持恒定光強或恒定功率模式

關鍵詞：顯微鏡

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