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磁控離子濺射儀

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參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號GVC-2000

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地

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更新時(shí)間：2023-06-29 18:19:28瀏覽次數(shù)：138次

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經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：3條

所在地區(qū)：

產(chǎn)品簡介

1.技術(shù)參數(shù)：輸入電壓AC220V±10%

詳細(xì)介紹

1.技術(shù)參數(shù)：

輸入電壓

AC220V±10%，50Hz

工作電壓

DC2400V

功率（主機(jī)與機(jī)械泵）

500W

工作原理

磁控濺射

可選靶材

金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬

真空泵

兩級直聯(lián)旋片式真空泵 1L/s

真空腔

φ128×130mm

樣品杯

φ90×1 / φ25×4 / φ15×6

整機(jī)尺寸（長×寬×高）

424×271×255（mm）

重量（主機(jī)）

11 kg

工作環(huán)境

溫度 5～40℃，濕度<60%

存儲(chǔ)環(huán)境

溫度-10~60℃，濕度<80%

工作氣體

Air / Ar

保護(hù)功能

過流、真空雙保護(hù)


2.效果圖：

2.1 陶瓷濾膜鉑靶10萬倍（ SU5500 ）：

GCV-2000陶.png


2.2 噴金樣品電鏡觀測圖對比

GVC-2000: 樣品形貌真實(shí)完整：

GCV-2000penjin.png


其他設(shè)備噴金的效果圖（熱損傷嚴(yán)重）：

其他設(shè)備噴金.png





關(guān)鍵詞：真空泵 旋片式真空泵
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